一、本文采用有无离子源辅助电子束蒸发两种工艺制备了Ta2O5薄膜，研究了制备工艺对Ta2O5薄膜性能的影响。
二、使用PMMA电子束抗蚀剂，在该系统上获得0.1微米的线分辨率。
三、为满足纳米级电子束曝光系统的要求，设计了高速图形发生器。
四、在圆形硅基底上采用电子束加热蒸发制备了二氧化钛薄膜。
五、研究了角锥喇叭天线的电子束焊接工艺,并与传统的氩弧焊成形工艺进行了对比.
六、评述了平板CRT的基本问题，指出矩阵式驱动和电子束偏转系统结合的平板CRT可能是很有前途的一种方案。
七、因此目前电子束光刻设备主要的用途是用于刻制掩膜板，许多人甚至认为电子束光刻技术的产出量永远也无法满足芯片量产的需求。
八、与所有降B调，电子束，C和低音谱号文书，爵士队用播放沿系列是最终的学习所有爵士乐手工具。
九、利用柱坐标系下的二维PIC程序对金属靶背向超热电子束的运动特性进行了模拟，研究了超热电子的回流机制。
十、高能量电子束也能用来激发高能量X射线峰的发射.
十一、结果：电子束CT使用电子束的磁偏转代替球管机械运动，既加快扫描速度，又减少机械磨损，有很高的时间分辨率。
十二、空心铝球的焊接更有特殊性，采用真空电子束焊接比激光焊接更为有利。
十三、研究了电子束曝光机图形数据格式转换软件的分割、压缩算法，针对传统的图形数据分割、压缩算法存在的主要缺点，提出了新的分割算法和压缩算法，并对压缩算法进行了详细的论述和研究。
十四、为实现电子束曝光机扫描场的线性畸变校正，设计了图形发生器的成像系统，该系统包括硬件和软件两部分。
十五、Ta2O5薄膜采用传统的电子束蒸发方法沉积在BK7基底上。【http://，加速后的电子经过磁透镜聚焦而形成能量密度极高的电子束来轰击工件表面。
二十一、本文介绍了新型电子束熔炼炉技术参数、结构、性能及其特点。
二十二、然后我放了两个感光片,我可以检测到光束所以,当我观察时,电子束以每秒80次的速度来来回回了。
二十三、结果表明，结果表明，熔炼工艺参数如熔化速度、熔炼功率、电子束扫描方式和扫描频率都会对熔池表面温度产生剧烈影响。
二十四、此外，用此方法提取的电子散射参数被成功地用于相同实验条件下的电子束临近效应校正。
二十五、比如一些3D印刷机在印刷台铺撒金属粉末之后，采用露光模板以外的激光或电子束方式进行热凝处理来产生样模。
二十六、残留表面电位会在后续观测中引入误差，影响临界尺度扫描电镜法的测量精度，并在电子束光刻中造成位置误差。
二十七、这个独立的的氮化硅结构从力学上看也很牢固，并且能禁受住TEM中300keV电子束的照射。
二十八、论述了光栅扫描的原理及特点；介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。
二十九、为了实现高清晰度显示，大量采用非旋转对称的系统以减小电子束上屏的束点尺寸。
三十、衍射光学元件有很多制作方法，比较成熟的有二元光学元件加工方法和激光或电子束直写技术加工方法。
